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HydroFORM掃查器
相控陣腐蝕成像探頭優勢特性
•局部水浸技術 •耦合效果得到優化,可以檢測粗糙的表面 •大面積覆蓋 •避免了楔塊反射 •方便的表面回波同步,用于外壁和內壁腐蝕的監測
典型應用
I4探頭
相控陣腐蝕成像探頭應用
•可以對中等大小及大面積區域進行手動或自動腐蝕檢測,完成對剩余壁厚或內部腐蝕材料的測量
雙晶線性陣列(DLA)腐蝕探頭
優勢特性
•一發一收技術 •極大地減少了表面回波,從而優化了表面分辨率 •可拆裝式弧面延遲塊 •內置灌溉 •環部件可調節,增強了穩定性和耐磨性 •與雙晶UT技術相比,DLA具有更高的探出率、更好的成像效果、更大的覆蓋范圍,以及增強的數據點密度
典型應用
REX1探頭 •可以對較小及中等大小的區域進行手動或自動檢測,完成對剩余壁厚或內部腐蝕材料的測量
ULT1探頭 •可以對較小及中等大小的區域進行手動檢測,完成對表面溫度高達150 °C工件的剩余壁厚或內部腐蝕區域壁厚的測量。
奧氏體、鎳及其它粗晶合金